ESI高被引科学家的分布研究 | |
张瑞红; 任晓亚![]() ![]() ![]() ![]() | |
2019 | |
Source Publication | 世界科技研究与发展
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Volume | 41Issue:3Pages:307-316 |
Indexed By | CSCD |
Language | 中文 |
CSCD ID | CSCD:6559166 |
Citation statistics | |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.las.ac.cn/handle/12502/10620 |
Collection | 中国科学院成都文献情报中心_情报研究部 |
Corresponding Author | 方曙 |
Affiliation | 中国科学院成都文献情报中心 |
First Author Affilication | 中国科学院文献情报中心 |
Corresponding Author Affilication | 中国科学院文献情报中心 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 张瑞红,任晓亚,谢黎,等. ESI高被引科学家的分布研究[J]. 世界科技研究与发展,2019,41(3):307-316. |
APA | 张瑞红,任晓亚,谢黎,陈云伟,&方曙.(2019).ESI高被引科学家的分布研究.世界科技研究与发展,41(3),307-316. |
MLA | 张瑞红,et al."ESI高被引科学家的分布研究".世界科技研究与发展 41.3(2019):307-316. |
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期刊-2019-世界科技研究与发展-ES(715KB) | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Download |
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