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ESI高被引科学家的分布研究
张瑞红; 任晓亚; 谢黎; 陈云伟; 方曙
2019
Source Publication世界科技研究与发展
Volume41Issue:3Pages:307-316
Indexed ByCSCD
Language中文
CSCD IDCSCD:6559166
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Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.las.ac.cn/handle/12502/10620
Collection中国科学院成都文献情报中心_情报研究部
Corresponding Author方曙
Affiliation中国科学院成都文献情报中心
First Author Affilication中国科学院文献情报中心
Corresponding Author Affilication中国科学院文献情报中心
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GB/T 7714
张瑞红,任晓亚,谢黎,等. ESI高被引科学家的分布研究[J]. 世界科技研究与发展,2019,41(3):307-316.
APA 张瑞红,任晓亚,谢黎,陈云伟,&方曙.(2019).ESI高被引科学家的分布研究.世界科技研究与发展,41(3),307-316.
MLA 张瑞红,et al."ESI高被引科学家的分布研究".世界科技研究与发展 41.3(2019):307-316.
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